Технологическое оборудование для микроэлектроники
8 (800) 700-08-45
+7 (812) 240-00-78     

Установка вакуумного напыления Kurt J. Lesker PVD75

Производитель: Kurt J.Lesker Company

Установка вакуумного напыления Kurt J. Lesker PVD75 является оптимальным выбором для R&D или мелкосерийного производства. Установка PVD75 является самой продаваемой моделью из всей линейки оборудования компании, так как она дает возможность использования электронно-лучевого, термического напыления, магнетронного распыления, распыления органических материалов и комбинаций различных техник в одной камере.

Для термического распыления установка оснащается тремя испарителями «лодочками». Для магнетронного распыления могут устанавливаться до четырех магнетронами. Электронно-лучевой испаритель доступен в различных модификациях и может комбинироваться с термическим, магнетронным или испарителем органических материалов. В качестве опции очистки предлагается ионная пушка.

Управление установкой осуществляется при помощи ПК с «тач-скрин» дисплеем. Установка работает как в полностью ручном, так и в автоматическом режиме по рецептам. В автоматическом режиме выполнение программы происходит по нажатию одной кнопки. Система настраивается таким образом, что стандартный процесс инициируется кнопкой старт сразу после закрытия камеры: откачка, очистка, напыления и напуск происходят автоматически по заранее заложенной программе.

Широкий перечень опций установки PVD75 позволяет фактически конфигурировать установку под заказ в каждом случае. Установка может быть сконфигурирована практически для всех задач напыления в R&D лаборатории или на производстве. Дополнительно установка может быть укомплектована лодочками, тиглями и другими расходными материалами, полный перечень которых можно найти на сайте www.lesker.com.

Пуско-наладочные работы, гарантийное и постгарантийное обслуживание всего модельного ряда установок Kurt J Lesker производит компания ЗАО «ЭлТех СПб» на правах эксклюзивного представителя компании Kurt J. Lesker в России.

Основные технические характеристики:

Вакуумная камера D-образная камера из нержавеющей стали 14"х14"х24″
Вакуумный насос ТМН 260л/с или 685л/с или 1000л/с или крионасос 1500л/с, спиральный или мас-ляный фор-насос 10 м3/час
Магнетронные источники 1″, 2″, 3″, 4″
БП магнетронных источников ВЧ300Вт, ВЧ600Вт, DC1кВт, DC2кВт, Pulsed DC1.5кВт
Автоматическое поддержание давления (для версии с магнетронами)

На основе РРГ и емкостного вакуумметра

Электронно-лучевой испаритель

KL-6: 5кВт или 10кВт, 8×2см3, 6×4см3, 4×8см3

KL-8: 5кВт или 10кВт, 8×12см3, 6×20см3, 4×35см3

Термические испарители До 3х лодочек, лодочки и тигли для любых материалов доступны для заказа
Испарители органических материалов Объем от 1 до 30 см3 (не более четырех)
Ионная пушка KRI EH200
Контроль толщины (мониторинг для магнетронного процесса) На основе кварцевых датчиков с заслонками. При термическом напылении датчики связаны с БП источников для автоматической работы
Подложкодержатель

Плоский, диаметр до 8″, доступны конфигурации под заказ

Размер образцов: 2″, 3″, 4″, 6«, 60×48мм, образцы произвольной формы

Предельный уровень вакууума 10-7 торр
Время откачки до 10-6 торр ~10 мин (Крионасос 1500л/с)
Габариты установки 1194×889×1905мм
Перечень опций:
(полный перечень опций по запросу)
  1. Окно для вакуумной камеры с заслонкой
  2. Сменные внутренние кожухи для сбора металла (для вакуумной камеры)
  3. Система «байпас» для рабочего насоса (шибер и вакуумная арматура)
  4. Чиллер (замкнутая система нагрева/охлаждения)
  5. Переключатель для магнетронов: один БП можно использовать для (до)4 магнетронов при работе попеременно
  6. Регулируемый угол наклона магнетрона
  7. Вращение подложкодержателя 0-20 об/мин
  8. Z-Перемещение подложкодержателя
  9. Нагрев подложкодержателя 150С, 350С, 500С (до 6″), 800С (до 6″), 1000С (до 6″)
  10. Водяное охлаждение подложкодержателя
  11. ВЧ смещение на подложкодержатель
  12. Различные конфигурации заслонок
  13. Дополнительные кварцевые датчики с заслонками
  14. Доступны конфигурации подложкодержателя под заказ, включая конфигурации под двухстороннее напыление

 

Производитель
Компания Kurt J. Lesker Company, основанная в 1954 году, на сегодняшний день является динамично развивающимся производителем и поставщиком технологического оборудования и компонентов для рынка вакуумных технологий. Компания имеет многолетний, более 20 лет, опыт создания вакуумных установок для осаждения тонких пленок.