Технологическое оборудование для микроэлектроники
8 (800) 700-08-45
+7 (812) 240-00-78     

Установка плазмохимического осаждения Plasma-Therm VISION 410 PECVD

Производитель: Plasma-Therm

Технологическая платформа VISION компании Plasma-Therm — это наиболее доступное решение для R&D и производственных задач. Установка конфигурируется в двух вариантах: VISION 420 RIE (реактивное ионное травление) и VISION 410 PECVD (плазмохимическое осаждение).

Система с открытой загрузкой позволяет реализовывать широкий спектр технологических процессов для технологий изготовления изделий МЭМС / MEMS, СИД / LED, приборов беспроводной связи / Wireless, анализа отказов / failure an-alisys и других. Исключение составляют процессы с коррозионными газами. По правилам техники безопасности, работа с такими газами должна производиться в системе с загрузочным шлюзом во избежание утечек.

Большой рабочий стол (электрод) установки диаметром 406 мм позволяет как работу с большинством существующих форматов подложек при решении задач R&D, так и полноценное производство на стандартных подложках (37×2″, 19×3″, 9×4″, 4×6«). При этом установка обладает малыми габаритами (667×1146мм, без насоса).

Аналогично старшим моделям установок компании Plasma-Therm, в платформе VISION реализовано собственное ПО Plasma-Therm для контроля окончания процессов травления и осаждения, которое использует оптические спектрометр, интерферометр или лазерный интерферометр.

В настоящий момент в мире установлено более 300 установок серии VISION. Каждая установка поставляется с базовым технологическим процессом, параметры которого гарантируются производителем.

Пуско-наладочные работы, гарантийное и постгарантийное обслуживание всего модельного ряда установок Plasma-Therm производит компания ЗАО «ЭлТех СПб» на правах представителя компании Plasma-Therm в России.

Дополнительно установка может быть укомплектована системами инженерного обеспечения, газоподачи, утилизации газов.

Основные технические характеристики:

Температура процесс 100...350С
Вакуумная камера

Полностью прогреваемая:

  • нижний электрод до 350С
  • верхняя часть до 150С
Типичные скорости осаждения SiO2/Si3N4 : 1000/225 А/мин
Типичные значения однородности
<+/- 2.5%
Диаметр рабочего стола 16″ / 406мм
Вакуумный насос Фор-насос 600 м3/час
Генератор 600Вт, 13.56МГц
Количество газовых линий До 8
Загрузка образцов Ручная (37×2″, 19×3″, 9×4″, 4×6″, 1×8″)
Тип EPD Оптический интерферометр OEI и лазерный датчик LES (по запросу)
Габариты установки 667×1146×1880мм (менее 1м2)

Перечень опций:

(полный перечень опций по запросу)

  1. Различные варианты комплекта ЗИП
  2. Различные варианты EPD
  3. Возможность установки через стену ЧПП
  4. Различные варианты держателей платин (37×2″, 19×3″, 9×4″, 4×6″ и другие)

 

Производитель
Компания Plasma-Therm (США) уже более 35 лет производит оборудование для плазмохимических процессов и занимает лидирующие позиции на многих мировых технологических рынках, таких как производство устройств беспроводной связи, светодиодов, устройств MEMS, устройств для хранения информации, фотошаблонов. Особое внимание компания уделяет направлению R&D в области микро- и наноэлектроники. На данный момент компания Plasma-Therm имеет 24 патента на устройства и технологические процессы в области плазменных технологий.