Технологическое оборудование для микроэлектроники
8 (800) 700-08-45
+7 (812) 240-00-78     

Установка дли измерения профиля легирования WEP CVP21

Производитель: WEP

Установка Wafer Profiler CVP21 является отличным инструментом для измерения профиля легирования различных полупроводниковых слоев. Получение картины распределения примесей осуществляется с помощью емкостного метода создания профиля распределения потенциала (CV-Profiling). Wafer Profiler CVP21 подходит для научно-исследовательских и производственных целей.

CVP21 совместимо с широким спектром материалов:

- VI группа полупроводников (Si, Ge, SiC);

- Материалы A3B5(GaAs, InP, GaP);

- Тройные соединения на основе A3B5 (AlGaAs, GaInP, AlInAs);

- Четверные соединения на основе A3B5 (AlGaInP);

- Нитриды (GaN, AlGaN, InGaN, AlInN);

- Материалы A2B6 (ZnO, CdTE, HgCdTe);

- И другие материалы широко используемые в полупроводниковом производстве.

Установка Wafer Profiler CVP21 может работать с многоуровневыми слоями, слои могут отличаться материалом, уровнем или типом легирования. Могут исследоваться слои вне зависимости от вида подложки, на которую они нанесены (полупроводниковые, проводниковые, диэлектрические подложки). Wafer Profiler CVP21 поддерживает образцы размером от 4 х 2 мм или целые пластины до 200 мм (образцы меньшего размера по запросу). Установка обладает высоким разрешением по концентрации от 1012 см-3 до 1021 см-3 и разрешением по глубине от 1нм до 100 мкм, в зависимости от типа материала и качества образца.

Установка оборудована:

- Простым и удобным программным обеспечением, с возможностью создания и сохранения рецептов;

- Камерой для контроля процесса в режиме реального времени;

- Калибровочной системой;

- Системой автоматической загрузки/выгрузки образцов.

Установка может поставляться и в настольной версии, чтобы уменьшить занимаемое пространство в чистой комнате.

 

Технические характеристики:

Источник питания 230В (-15%/+10%), 50-60Гц (возможна поддержка 100В/110В)
Потребляемая мощность 500 ВА - 1000 ВА
Размеры установки 60Ш х80Г х1950В см

 

Производитель
Компания WEP была основана и успешно осуществляет свою деятельность в Германии. Основное направление деятельности компании это оборудование для снятия профиля распределения примеси, контроль процессов монтажа кристалла на плату или в корпус. Установки компании WEP используются многими ведущими фирмами Германии и мира.