Технологическое оборудование для микроэлектроники
8 (800) 700-08-45
+7 (812) 240-00-78     

Установка совмещения и экспонирования Neutronix-Quintel NXQ4008

Производитель: Neutronix-Quintel

Полуавтоматическая установка совмещения и экспонирования NXQ4008 сочетает в себе возможность прецизионного совмещения и экспонирования, гибкость в настройке и удобство работы для оператора. Установка позволяет работать в режимах контактной литографии (мягкий/жесткий контакт) и литографии с вакуумным контактом. Данное оборудование работает с пластинами размером до 200 мм (8"), в том числе и с осколками. Установка подходит для широкого спектра задач и может применяться как при производстве, так и в научных центрах и университетах для проведения исследований.

 

Особенности установки:

- Режимы контактной литографии и литографии с вакуумным контактом.

- Микроскоп VideoView с раздельными камерами высокого разрешения (есть возможность вывода изображения на двойной HD монитор). Объективы 5х. Режимы работы одиночного и разделенного поля. Увеличение объектива 5х, оптическое увеличение 7х (выбор требуемого поля обзора и кратности увеличения).

- Опциональные объективы 2х, 7.5х, 10х или 20х

- Светодиодная подсветка

- Ручное управление с помощью джойстика и микрометра

- Удобный лоток для ручной загрузки и выгрузки пластин

- Автоматическая компенсация ошибки положения пластины после ее загрузки

- Загрузка фотошаблона сверху

- Антивибрационное основание в стандартной комплектации

- Возможность задания времени экспозиции

- Установка проста в использовании, идеально подходит для лабораторий

- Высокая надежность и низкие эксплуатационные расходы

 

Опциональные возможности:

- ИК совмещение по обратной стороне (IR)

- Оптическое совмещение по обратной стороне (OBS)

- Модуль ИК-совмещения и модуль оптического совмещения интегрированы в единую систему, которая не требует смены оснастки. Для использования нужного метода совмещения по обратной стороне достаточно выбрать нужный пункт в меню программы.

- Оснащение специальной оптикой для работы с прозрачными подложками и пленками, которые требуют повышенной точности

- QuadCam – 2 CCD камеры высокого разрешения с объективами. Уникальное устройство позволяет менять широкий обзор на большое увеличение одним нажатием кнопки, без повторной фокусировки.

- Возможно оснащение установки для проведения процесса наноимпринт УФ-литографии (NIL-UV)

- Оптическая система с поддержкой ближнего (NUV 280-350 нм), среднего (MID UV 280-450 нм) и дальнего (DUV 220-280 нм) ультрафиолета

 

Технические характеристики:

 

Режимы работы Мягкий/жесткий контакт
Вакуумный контакт
Разрешение при экспонировании ≥0.5 мкм (при использовании вакуумного контакта)
Размер подложек От кусочков до подложек размером 200 мм (8")
Толщина подложек до 10 мм
Размер шаблона От 3"x3" до 9"x9"
Модуль совмещения  
Диапазон перемещений (X, Y) ± 3,8 мм
Диапазон перемещений (по оси) ± 7°
Расстояние шаблон/подложка 0-180 мкм
Точность совмещения (по верхней стороне) < 1 мкм
Точность совмещения (по обратной стороне) < 1.5 мкм (OBS) < 3 мкм (IR)
Пределы перемещения микроскопа  
Левый микроскоп, перемещение по X -22 мм до края пластины
С объективами смещения -5.5 мм до края пластины
Правый микроскоп, перемещение по X +22 мм до края пластины
С объективами смещения +5.5 мм до края пластины
Левый/правый микроскоп, перемещение по Y ±12.7 мм
Опциональное расширение перемещения микроскопа по Y От +12.7 мм до -88 мм
Система экспонирования  
Мощность лампы 350/500 Вт или 500/1000 Вт
Стандартная оптика (УФ) 350-450 нм
Ближний ультрафиолет NUV (опция) 280-350 нм
Средний ультрафиолет MUV (опция) 280-450 нм
Дальний ультрафиолет DUV (опция) 220-280 нм
Равномерность освещения ± 5% (при диаметре пластины 200мм/8")
Электроника/управление Программное управление и контроль проведения процесса с помощью системы управления процессом (ПЛК/PLC) с ЖК дисплеем
Понятный, интуитивный интерфейс пользователя
Электропитание 115В/60Гц или 240В/50Гц
Сжатый воздух 5.4 бар (80 PSI)
Вакуум -0.7 бар
Азот 3 бар (40 PSI)
Габариты (ШxГxВ) 1220x915x1423 мм (48"x36"x56")
Вес 217 кг

 

Представленные технические характеристики являются примером возможности установки в конкретной конфигурации, но не отражают реальные характеристики оборудования по всей модельной серии. Для уточнения конкретных технических возможностей оборудования в конфигурации согласно техническому заданию необходимо направить нам запрос на разъяснение возможностей оборудования.

Производитель

Компания Neutronix-Quintel, основанная в 1978 в США, занимается разработкой и производством установок совмещения и экспонирования для процессов фотолитографии в полупроводниковой и микроэлектронной индустрии. На данный момент компания является ведущим поставщиком новых установок микролитографии на рынках оптоэлектроники, микросистемной техники и нанотехнологий.