Технологическое оборудование для микроэлектроники
8 (800) 700-08-45
+7 (812) 240-00-78     

Установка быстрого отжига UniTemp RTP-150-HV

Производитель: Unitemp GMBH

Печь RTP-150 предназначена для проведения термической обработки полупроводниковых пластин диаметром до 150 мм, в которых требуется высокая скорость нагрева и охлаждения, в том числе в вакууме и в инертных средах. Компактный дизайн и простота в использовании делают эту модель наиболее привлекательной для использования в лабораториях и R&D центрах при проведении исследований и разработке новых устройств. Печь оснащена современным контроллером с сенсорным экраном диагональю 7 дюймов. Программное обеспечение позволяет создавать до 50 программ температурной обработки, включающих в себя до 50 шагов. Также программное обеспечение позволяет контролировать в ручном режиме скорость нагрева и охлаждения, подачу инертного газа, устанавливать пароль доступа и осуществлять запись данных проводимых процессов.

Технические характеристики:

Макс. размер пластин 150 мм (6″) или 156 х 156 мм
Материал камеры Из кварцевого стекла с интегрированной
подачей и откачкой газа
Высота камеры 40 мм
Система загрузки подложек поддон из кварцевого стекла
Уровень вакуума до 10-6 мбар (торр)
Размер камеры 325 х 214 х 40 мм (Ш х Г х В)
Макс. температура 1000 °С
Нагрев 24 ИК лампы (21 кВт)
Зоны нагрева верхняя и нижняя
Скорость нагрева до 75 К/сек
Скорость охлаждения

с 1000 °С до 400 °С : 200 К/мин,

с 400 °С до 100 °С : 30К/мин

Управление Встроенный контроллер с сенсорным экраном
Охлаж Принудительное водяное, требуется чиллер
Эл. питание 3×32 А, 230 В, 3 фазы, тип подключения СЕЕ
Размер установки 505×504×580 мм
Вес печи 65 кг

 

Производитель

Компания UniTemp GmbH основана в Германии в августе 2000 г. UniTemp работает в сфере разработки и производства оборудования для термических процессов в микроэлектронике. Одним из основных на правлений развития компании является создание систем быстрого высокотемпературного вжигания с высокими показателями скорости температуры нагревания и охлаждения.