Технологическое оборудование для микроэлектроники
8 (800) 700-08-45
+7 (812) 240-00-78     

Orion III

Производитель: Trion Technology
Назначение установки
Лабораторная система плазмохимического осаждения (PECVD)

Orion III PECVD – это компактная система, предназначенная для нанесения тонких пленок.

Система отвечает всем нормам безопасности для использования в лабораторных условиях и на пилотных линиях.

Orion III используется для процессов, где не применяются самовоспламеняющиеся газы. Пленки для нанесения: оксиды, нитриды, оксинитриды, аморфный кремний. Процессные газы: <20% силана, аммиак, ТЭОС, диэтилсилан, закись азота, кислород, азот.
Триод или источник индуктивно-связанной плазмы предлагает в качестве опции к системе. Триод позволяет создавать более плотную плазму и поэтому контролировать напряжение пленок. Уникальный дизайн камеры позволяет наносить пленки с низким внутренним напряжением при низком уровне мощности. 
Производитель
Trion производит широкий ассортимент установок плазмохимического травления и плазменного напыления для полупроводников, МЭМС, оптоэлектронных изделий и других отраслей. Установки Trion отличаются небольшими требованиями к ресурсам, а также самыми низкими затратами в отрасли с доказанной надежностью изделий.