Технологическое оборудование для микроэлектроники
8 (800) 700-08-45
+7 (812) 240-00-78     

Phantom III

Производитель: Trion Technology
Назначение установки
Система плазмохимического травления (RIE; RIE+ICP)

Phantom III – небольшая система плазмохимического травления, разработанная для научно-исследовательских центров и лабораторий. 

Система использует до 7 технологических газов для травления нитридов, оксидов и других пленок или подложек требующих фтористый химический состав (уголь, эпоксидная смола, графит, индий, молибден и др.). Реактор также может использоваться для очистки фоторезиста и других органических материалов. Электростатический держатель предлагается в качестве опции для более эффективного охлаждения платы во время процесса травления. Электростатический держатель использует контроллер под давлением гелия для создания охлаждающего слоя гелия на обратней стороне платы.

Производитель
Trion производит широкий ассортимент установок плазмохимического травления и плазменного напыления для полупроводников, МЭМС, оптоэлектронных изделий и других отраслей. Установки Trion отличаются небольшими требованиями к ресурсам, а также самыми низкими затратами в отрасли с доказанной надежностью изделий.