Технологическое оборудование для микроэлектроники
8 (800) 700-08-45
+7 (812) 240-00-78     

Магнетронное напыление

Принцип магнетронного напыления основан на распылении материала, из которого изготовлена мишень для магнетрона, при его бомбардировке ионами рабочего газа, образующимися в плазме тлеющего разряда. Основные элементы магнетронной распылительной системы — это катод, анод и магнитная система, предназначенная для локализации плазмы у поверхности мишени — катода. Магнитная система, расположенная под катодом, состоит из центрального и периферийных постоянных магнитов, расположенных на основании из магнитомягкого материала. На катод подаётся постоянное напряжение от источника питания. Основные преимущества магнетронного способа распыления, при использовании мишени для магнетрона — высокая скорость распыления и точность воспроизведения состава распыляемого материала.

Установка магнетронного напыления позволяет получать покрытия практически из любых металлов, сплавов и полупроводниковых материалов без нарушения стехиометрического состава. В зависимости от состава рабочей атмосферы (долей кислорода, азота, диоксида углерода, сернистых газообразных соединений) можно получать плёнки различных составов. Скорость конденсации при магнетронном распылении зависит от силы тока разряда или мощности и от давления рабочего газа.

Применение:

  • Формирование тонких пленок металлов (Ag, Au, Al, Cu и др.)
  • Формирование тонких пленок полупроводников (Si, Ge, SiC, GaAs и др.)
  • Формирование тонких пленок диэлектриков (Al2O3, SiO2 и др.)

 

Кластерная система магнетронного распыления Е600 - это многофункциональная платформа для производства приборов на основе эффекта GMR, ионно-пучкового осаждения и ионно-пучкового травления. Система может иметь до 5 процессных камер и шлюз загрузки под одну пластину или под кассеты.
Установка вакуумного напыления Kurt J. Lesker mini-Spectros является младшей моделью линейки установок Spectros, предназначенных, преимущественно, для испарения органических материалов и производства OLED.
Установка вакуумного напыления Kurt J. Lesker lab18 является модификацией установки PVD75, предназначенной R&D задач. Установка lab18 может быть оснащена вакуумным загрузочным шлюзом для обеспечения высокой чистоты при реализации R&D процессов.
Установка вакуумного напыления Kurt J. Lesker PVD500 фактически представляет собой установку PVD75 с вакуумной камерой увеличенного объема. Вакуумная камера позволяет размещать источники большой емкости и мощности для реализации процессов пилотного производства.
Установка вакуумного напыления Kurt J. Lesker PVD250 фактически представляет собой установку PVD75 с вакуумной камерой увеличенного объема.
Установка вакуумного напыления Kurt J. Lesker PVD225 фактически представляет собой установку PVD75 с вакуумной камерой увеличенного объема.
Установка вакуумного напыления Kurt J. Lesker PVD75 является оптимальным выбором для R&D или мелкосерийного производства.
Установка вакуумного напыления Kurt J. Lesker Nano36 является оптимальным выбором для экспериментальной лаборатории или лаборатории университета.