Технологическое оборудование для микроэлектроники
8 (800) 700-08-45
+7 (812) 240-00-78     

Электронно-лучевое напыление

В основе метода лежит принцип испарения рабочего материала (навески) за счет воздействия на навеску потока электронов, генерируемого катодом электронно-лучевого испарителя. В электронно-лучевом испарителе имеется тигль, в который закладывается навеска. Поток электронов, созданный катодом, фокусируется на тигле при помощи магнита. Электронный луч с энергией (9,6...48,0)*10-16 Дж (типичная мощность до 10кВт) довольно быстро нагревает вещество до температуры плавления, а затем и испарения. Испарение происходит в сверхвысоком вакууме (до 10-8 Па), что обеспечивает высокую чистоту процесса.

Преимущества электронно-лучевого испарения обусловлены, прежде всего, тем, что это в этом способе энергия подводится непосредственно к поверхности, где формируется поток пара. Метод позволяет достичь значительной поверхностной плотности энергии, благодаря чему могут быть реализованы высокие скорости испарения тугоплавких металлов (тантала, молибдена и других). Так же преимуществом метода является высокая чистота осаждаемой пленки, что достигается за счет отсутствия контакта испаряемого материала с материалом тигля. Особенностью данного метода является то, что подложки не нагреваются в процессе испарения, так как они располагаются на большом расстоянии от испарителя (30-40см), что позволяет реализовывать на базе этого процесса технологию «взрывной» («lift-off») литографии для формирования высокочистых металлических межсоединений.

Применение:

  • Формирование тонких пленок металлов (в том числе тугоплавких) и диэлектриков
  • Формирование многослойной металлизации в сверхвысоком вакууме
  • Реализация технологии «взрывной литографии» («lift-off»)
Система E300 является одной из наиболее малогабаритных установок, представленных на рынке. При относительно малых габаритах конструкция системы позволяет использовать электронно-лучевой испаритель как с одной, так и с несколькими ячейками (до 15).
Установка вакуумного напыления Kurt J. Lesker lab18 является модификацией установки PVD75, предназначенной R&D задач. Установка lab18 может быть оснащена вакуумным загрузочным шлюзом для обеспечения высокой чистоты при реализации R&D процессов.
Установка вакуумного напыления Kurt J. Lesker PVD500 фактически представляет собой установку PVD75 с вакуумной камерой увеличенного объема. Вакуумная камера позволяет размещать источники большой емкости и мощности для реализации процессов пилотного производства.
Установка вакуумного напыления Kurt J. Lesker PVD250 фактически представляет собой установку PVD75 с вакуумной камерой увеличенного объема.
Установка вакуумного напыления Kurt J. Lesker PVD225 фактически представляет собой установку PVD75 с вакуумной камерой увеличенного объема.
Установка вакуумного напыления Kurt J. Lesker PVD75 является оптимальным выбором для R&D или мелкосерийного производства.