Технологическое оборудование для микроэлектроники
8 (800) 700-08-45
+7 (812) 240-00-78     

Плазменная очистка поверхности

Плазменная очистка поверхности используется для предварительной подготовки материалов в цикле изготовления полупроводниковых приборов и в других областях производства. Процесс очистки происходит под действием ионной бомбардировки и за счет окисления органических загрязнений до легколетучих и газообразных продуктов, которые впоследствии откачиваются из реакционной зоны вакуумной системой. В результате обработки поверхность приобретает высокую адгезионную способность, что особенно важно для последующего нанесения покрытий.

Применение:

  • Предварительная обработка перед нанесением фоторезиста, металлических, диэлектрических покрытий.
  • Предварительная обработка перед микросваркой, пайкой или склеиванием.
  • Предварительная обработка металлических изделий перед нанесением полимерных покрытий.
  • Удаление жиров, масел, окислов и силиконов.
Установки плазменной очистки поверхности Diener серии NANO предназначены для очистки и активации поверхности изделий из полупроводниковых, кварцевых, стеклянных и прочих диэлектрических материалов в вакууме.
Установки плазменной очистки поверхности Diener серии PICO предназначены для очистки и активации поверхности изделий из полупроводниковых, кварцевых, стеклянных и прочих диэлектрических материалов в вакууме.
Серия Plasmabeam предназначена для локальной обработки поверхности с помощью атмосферной плазмы. Система оснащена встроенным генератором на 20 кГц, 300 Вт и позволяет селективно обрабатывать поверхность с шириной полосы около 12 мм.
Установки плазменной обработки поверхности Diener серии Tetra предназначены для очистки, активации и травления поверхности, а также нанесения покрытий на изделия из полупроводниковых, кварцевых, стеклянных и прочих материалов в вакууме.
Установки плазменной обработки поверхности Diener серии FEMTO предназначены для очистки, активации и травления поверхности изделий из полупроводниковых, кварцевых, стеклянных и прочих материалов в вакууме. Установки снабжены системой вакуумной откачки, включающей вакуумный насос.