Технологическое оборудование для микроэлектроники
8 (800) 700-08-45
+7 (812) 240-00-78     

Электронно-лучевая литография

Установка электронно-лучевой литографии содержит электронно-оптическую систему, которая формирует остросфокусированный электронный пучок, и магнитную систему, которая отклоняет пучок. В результате электронный луч прорисовывает нужные конфигурации на поверхности чувствительного к электронному облучению резиста, нанесенного на подложку. Управление положением электронного пучка производится изменением токов в отклоняющих магнитных системах, которые контролируются при помощи компьютера. Установки электронно-лучевой литографии позволяют получать структуры с субнанометровым разрешением, недостижимой для обычной фотолитографии, благодаря более короткой дебройлевской длине волны электронов по сравнению с длинами волн УФ-излучения.

Применение:

Электронно-лучевая литография применяется:

  • Формирование фотошаблонов с минимальным размером элемента вплоть до 1 нм
  • Формирование экспериментальной топологии приборов (R&D)
  • Формирование топологии наноразмерных элементов приборов (производство)