Технологическое оборудование для микроэлектроники
8 (800) 700-08-45
+7 (812) 240-00-78     

Лазерная безмасковая литография

Лазерная литография позволяет осуществлять безмасковое формирование изображения в слое фоторезиста на поверхности подложки лазерным лучом. Метод предназначен для формирования топологических структур на металлизированных пластинах при производстве фотошаблонов, интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования микроструктур на пластинах кремния, стекле, пленках и других материалах с фоторезистивным покрытием.

Этот метод позволяет получать разрешение порядка десятков нанометров и часто используется в исследовательских лабораториях и лабораториях университетов для R&D применений. Основным недостатком метода является крайне низкая производительность. Формирование изображение на пластине диаметром 100мм может занимать более суток (в зависимости от топологии). Тем не менее, оборудование для лазерной литографии значительно дешевле установок электронно-лучевой литографии и поэтому часто применяется там, где нет необходимости в высокой производительности и повторяемости результата.

Применение:

  • Производство фотошаблонов для фотолитографии
  • Полутоновое экспонирование
  • Формирование топологии на полупроводниковых подложках (R&D)