Технологическое оборудование для микроэлектроники
8 (800) 700-08-45
+7 (812) 240-00-78     

Травление

Жидкостное травление — процесс травления в жидкой фазе активным химическим раствором. Представляет собой процесс удаления вещества с использованием жидких химических реагентов. Для применения жидкостного травления область, которая не будет подвержена травлению, покрывается маской. Остальная (открытая) область будет подвержена травлению. Затем материал погружается в реактивный раствор. Процессы травления классифицируют на изотропный, который не зависит от кристаллической структуры материала, и анизотропный, который зависит от нее. При изотропном травлении вытравливание происходит во всех направлениях с одинаковой скоростью на немаскированных участках на поверхности, формируя, таким образом, круглую форму поперечного сечения. При анизотропном травлении скорость травления различна в разных кристаллографических направлениях материала. Жидкостное травление применяют в тех случаях, когда не важна высокая степень анизотропии (например, при травлении металлической разводки). К недостаткам этого метода можно отнести невозможность травления некоторых соединений — таких например как карбид кремния (SiC) и нитрид галлия (GaN). Для травления этих материалов используют «сухое» плазмохимическое травление.

Применение:

  • Получения необходимого рельефа поверхности
  • Формирования изолирующих или проводящих областей.
Данная серия шкафов предназначена для хранения электронных компонентов и микросхем в среде инертного газа. При выставлении необходимой относительной влажности, происходит напуск азота. При достижении заданной величины влажности, подача газа прекращается.
Данный сушильный шкаф предназначен для защиты от влаги электронных устройств и компонентов. Серия А1М регулируется от 5% RH до 50% RH. Внутренняя среда сушильного шкафа контролируется при помощи цифрового контроллера.
Установка предназначена для нанесения, проявления фоторезиста на подложки и отмывки подложек спрей-методом. Корпус выполнен из полипропилена. Плоская крышка изготовлена из прозрачного полимера. Подача рабочих веществ осуществляется через встроенные линии CIL.
Установка предназначена для отмывки подложек спрей-методом. Корпус выполнен из полипропилена. Куполообразная крышка изготовлена из прозрачного полимера. Подача рабочих веществ осуществляется через дозаторы-форсунки, установленные на крышке.
Установка предназначена для нанесения, проявления покрытия, травления, отмывки, сушки пластин и фотошаблонов.
Установка предназначена для нанесения, проявления покрытия, травления, отмывки, сушки пластин и фотошаблонов.