Технологическое оборудование для микроэлектроники
8 (800) 700-08-45
+7 (812) 240-00-78     

SMI

Компания Structured Materials Industries (SMI), основанная с 1992 году, специализируется на разработке систем для формирования покрытий методами MOCVD, СVD, ALD. Системы, произведенные компанией SMI, отличаются простотой управления, гибкостью конфигурации и расширенными технологическими возможностями.

Благодаря серьезной технологической поддержке своих клиентов и гибким компоновочным решениям своих платформ компания SMI добилась лидирующих позиций на рынке исследовательского оборудования. Каждая установка SMI имеет набор базовых технологий, которые отрабатываются в прикладной лаборатории компании. Так же, по техническому заданию Заказчика, любая технология может быть опробована на экспериментальном реакторе SMI в лаборатории компании. В своей прикладной лаборатории компания SMI постоянно ведет исследовательские работы по разработке новых технологий формирования наноструктурированных покрытий. К последним достижениям компании можно отнести наработки в области получения графена и карбида кремния.

Исторически компания SMI начала свою деятельность с производства установок MOCVD для сложных оксидов, таких как сегнетоэлектрики, электро-оптические материалы, прозрачные проводящие оксиды. В то же время компания стала поставлять оборудование, используемое на высокотехнологичных производствах, таких как производство полупроводников. В настоящий момент технологическое поле компании значительно расширилось и включает формирование таких материалов как: оптический ZnO p-типа, LiNbO3 для MOEMS и OIC, сверхпроводники, активные покрытия для MEMS приборов, нитриды, карбиды. Компания внимательно следит за развитием рынка и расширяет направление свое деятельности на новые перспективные материалы, такие как металлы, соединения полупроводников, и халькогенидов.

В настоящее время компания SMI создает оборудование для ведущих американских исследовательских институтов и предприятий оборонной промышленности США.

Компания осуществляет трансфер технологических решений для производства. Таким образом, SMI производит НИОКР по заданию Заказчика на разработку новой технологии, а затем передает готовый технологический процесс вместе с подготовленным оборудованием. Благодаря такому сотрудничеству компания NEI Corporation заняла одно из ведущих мест в своей отрасли.

  Показать полное описание
Установка FB-CVD компании SMI предназначена для нанесения однородных покрытий методом химического осаждения из газовой фазы (CVD) на материалы в виде порошков или мелких частиц.
Система Nano V CVD от компании SMI предназначена для проведения процессов химического осаждения из газовой фазы (CVD) широкого спектра материалов, таких как кремний, карбиды, халькогениды, нитриды, оксиды, материалы типа AIIIBV(фосфиды, антимониды), а также таких углеродных материалов, как нанотр
Система Nano H CVD от компании SMI предназначена для проведения процессов химического осаждения из газовой фазы (CVD) широкого спектра материалов, таких как кремний, карбиды, халькогениды, нитриды, оксиды, гетероструктурные полупроводники, а также таких углеродных материалов, как нанотрубки и гр
Установка GaNomite компании SMI является высотехнологичной системой газофазного осаждения, оптимизированной для роста нитридов c традиционным и хлоридным процессом MOCVD.
Одна из новых установок компании Structured Materials Industries, Inc., предназначенная для роста карбидов. Dragon CVD компактна, что позволяет устанавливать ее не только на предприятиях, но и в исследовательских лабораториях.