Технологическое оборудование для микроэлектроники
8 (800) 700-08-45
+7 (812) 240-00-78     

Участок плазмохимии



Типовой участок плазмохимических процессов может использоваться в R&D лабораториях и на производствах БИС, ГИС, МЭМС, НЭМС, оптоэлектроники, СВЧ-электроники, силовой электроники.

На представленном участке возможно проведение следующих технологических процессов: создание межприборной изоляции; глубокое анизотропного травление материалов; сквозного травление обратной стороны (back-etch, via); травление металлизации; глубокое травление кремния (Bosch-процесс); формирование диэлектрических слоев, масок, пассивирующих слоев; и других.

Типовой участок содержит основное технологическое оборудование и необходимые инженерные системы обеспечения. Концепция участка может модифицироваться в зависимости от технологических задач и наличия существующих инженерных систем.

 

Технологические операции и оборудование:

 

1. Плазмохимическое травление.

Установка Plasma-Therm Versaline LL ICP (фторная/хлорная химия).

Установка позволяет проводить операции создания межприборной изоляции; глубокого анизотропного травления (в том числе кремния); травления "cложных" материалов (карбиды, нитриды); сквозного травления обратной стороны (back-etch, via), травления металлизации; и многих других.

Установка оснащена ICP катушкой, которая дает возможность раздельно управлять плотностью плазмы и потоком ионов, падающих на поверхность подложки. Мощность ICP катушки до 3.5кВт позволяет уверенно работать как при точном медленном травлении материалов, так и при глубоком сквозном травлении "сложных" материалов (GaN, SiC). Существует специальная модификация установки под глубокое травление кремния. Установка ориентирована на производственный цикл использования и демонстрирует постоянный результат по скорости и однородности травления даже при круглосуточном режиме работы. Установка может работать с пластинами до 200мм. Для производственных задач установка оснащается кассетным загрузчиком или формируется в кластер.

Для каждого обрабатываемого материала используются различные плазмообразующие газы, позволяющие проводить процесс с наибольшей эффективностью. Так, для травления кремния в основном используется фторсодержащая плазма, а для травления металлов-хлорсодержащая. Для достижения высокой воспроизводимости технологического процесса, производителем рекомендуется проводить фторное и хлорное травление в двух разных установках.

2. Плазмохимическое осаждение.

Установка Plasma-Therm Versaline LL HD PECVD.

Установка позволяет проводить операции формирования диэлектрических слоев, масок, пассивирующих слоев, включая SiO2, Si3N4 и другие.

Особенностью установки является наличие ICP катушки, которая позволяет помимо стандартных процессов осаждения при температурах 100-350С, проводить специальные процессы при пониженных температурах, вплоть до комнатной (например, заполнение диэлектриком структур сложного рельефа).

3. Эллипсометрия.

Эллипсометр Semilab GES5E.

Эллипсометр Semilab GES5E обеспечивает различные виды измерений: стандартная и обобщённая эллипсометрия, фотометрические измерения (пропускание и отражение), рефлектометрия, измерение люминесценции. Все измерения выполняются автоматически, как функция: длины волн, угла падения, состояния поляризации и времени. Стандартный спектральный диапазон составляет 230-900 нм.

 

Спецификация оборудования типового участка:

Тип установки Фирма Модель

Кол-во,

шт.

1 Установка плазмохимического травления в индуктивно-связанной плазме Plasma-Therm Versaline LL ICP 2
2 Установка плазмохимического осаждения Plasma-Therm Versaline LL PECVD 1
3 Эллипсометр Semilab GES5E 1
4 Электронный сканирующий микроскоп FEI Inspect S50 1
5 Электрическая стойка Plasma-Therm   3
6 Чиллер Plasma-Therm   3
7 Безмасляный коррозионностойкий вакуумный насос BOC Edwards IH80 2
8 Безмасляный коррозионностойкий вакуумный насос BOC Edwards IH600 1
9 Адсорбер CLEANSORB CS065SC 3
10 Вакуумный спиральный насос BOC Edwards XDS35 3
11 Газовый шкаф Sempa Gasguard 5
12 Газовый баллон     4
13 Скруббер Ebara G5 1
14 Генератор азота DAS Styrax 1
15 Безмасляный спиральный компрессор  Atlas Copco  SF 1
16 Стеллаж из нержавеющей стали для хранения инвентаря     1
17 Стол лабораторный из нержавеющей стали     3
18 Стул антистатический     5

 

 

Для управления панорамой используйте курсор и кнопки + и - для приближения и удаления: