Технологическое оборудование для микроэлектроники
8 (800) 700-08-45
+7 (812) 240-00-78     

Участок литографии



На представленном участке возможно проведение следующих технологических процессов: формирование топологических структур на металлизированных пластинах при производстве фотошаблонов, интегральных схем, гибридных интегральных схем; формирование микроструктур на пластинах кремния, стекле, пленках и других материалах с фоторезистивным покрытием; формирование трёхмерных структур, линз Френеля, выпуклых и вогнутых линз.

Типичная производительность участка литографии: до 50 пластин ø76 мм (3") в день. Максимальный размер пластин, рекомендуемых для использования на участке, до 150 мм (6").

Технологические операции и оборудование:

1. Сушка пластин

Установка сушки пластин SPS APT HT150S

Установка с ручным управлением позволяет эффективно выполнять обработку пластин при температуре до 250 °С. Модульная конструкция термоплиты позволяет легко менять держатели пластин. Установка может быть оснащена несколькими областями нагрева.

2. Нанесение и сушка фоторезиста

Установка для нанесения и проявления фоторезиста SPS APT - SPIN150-PTFE

Установка представлена в виде полуавтоматической центрифуги и позволяет проводить нанесение, проявление фоторезиста на подложки, а также отмывку подложек. Корпус установки выполнен целиком из химически стойкого материала – фторопласта.

Установка сушки и задубливания фоторезиста UniTemp HP-220

Установка HP-220 осуществляет сушку и задубливание фоторезиста при температуре до 250 °C. Установка оснащена вакуумным захватом для фиксации пластины. Размер области нагрева термоплиты составляет 220x155 мм.

Также для проведения процесса сушки и задубливания фоторезиста может быть использована установка SPS APT HT 150S, представленная ранее.

3. Экспонирование фоторезиста

Установка совмещения и экспонирования Neutronix-Quintel NXQ4008

Установка позволяет работать в режимах вакуумной и контактной фотолитографии с пластинами диаметром до 200 мм. Используется для создания структур с минимальным размером элемента вплоть до 0,5 мкм.

Лазерный генератор изображений Heidelberg DWL66FS

Топологический рисунок создается непосредственно на поверхности фоторезиста, что исключает использование маски. Установка позволяет получать высококачественные двумерные структуры. Помимо этого, в режиме полутоновой шкалы экспонирования имеется возможность создавать трехмерные структуры, линзы Френеля, выпуклые и вогнутые линзы.

4. Проявление и удаление фоторезиста

Установка проявления и удаления фоторезиста SPS APT ACD-200 NPP

Полуавтоматическая центрифуга с автоматической подачей веществ предназначена для проявления фоторезиста и отмывки пластин. Пластина закрепляется в установке с помощью вакуумного держателя. Установка поддерживает работу с пластинами и осколками размером до 200 мм, а также пластин нестандартных размеров с использованием специальных держателей. Управление установкой осуществляется программно, с помощью встроенного микроконтроллера.

5. Микроскопия

Микроскоп Olympus BX61

Микроскоп имеет оптическую систему, скорректированную на бесконечность, модульное строение, устойчивую Y-образную раму, мощный осветитель для проходящего света 100Вт, что позволяет получать яркие, высококонтрастные изображения. Микроскоп легко достраивается и позволяет применять большое число современных технологий микроскопии, таких как фазовый контраст, наблюдение в свете люминесценции, дифференциальный интерференционный контраст.

 

Спецификация оборудования типового участка:

Тип установки Компания Модель Кол-во, шт.
1 Лазерный генератор изображений Heidelberg DWL66FS 1
2 Установка совмещения и экспонирования Neutronix-Quintel NXQ4008 1
3 Микроскоп Olympus BX61 1
4 Вытяжной шкаф Сталис КС 2
5 Вакуумный спиральный насос BOC Edwards XDS5 2
6 Установка сушки и задубливания фоторезиста SPS APT HT150S 2
7 Установка нанесения фоторезиста SPS APT ACD-200PTFE 1
8 Установка проявления и удаления фоторезиста SPS APT ACD-200PTFE 1
9 Установка сушки пластин SPS APT SPIN150-PTFE In-Deck 2
10 Установка измерения толщины тонких плёнок Filmetrics F50 1
11 Шкаф сухого хранения Dr Storage X2M-600 1
12 Стеллаж из нержавеющей стали для хранения инвентаря     5
13 Стол лабораторный из нержавеющей стали     3
14 Стол лабораторный из нержавеющей стали     2
15 Стул антистатический     5
16 Безмасляный спиральный компрессор AtlasCopco SF 1
17 Установка получения деионизованной воды Veolia CEDI 30-01 1
18 Емкость для сбора и хранения химических стоков     6
19 Лазерный генератор изображений Heidelberg DWL66FS 1

 

Для управления панорамами используйте курсор и кнопки + и - для приближения и удаления: